삼성전자, 시스템 반도체에 171조원 투자

[증권경제신문=전수민 기자] 삼성전자(005930, 대표 김기남, 김현석 고동진)는 ‘시스템반도체 비전 2030’을 달성하기 위해 투자를 대폭 확대할 계획이라고 13일 밝혔다. 

삼성전자는 평택캠퍼스에서 13일 열린 ‘K-반도체 벨트 전략 보고대회’에서 시스템반도체 분야에 대한 추가 투자 계획을 발표했다. 

시스템반도체 리더십 조기 확보를 위해 기존 ‘시스템반도체 비전 2030’ 투자계획 133조원에 38조원을 추가해 총 171조원을 투자하고 첨단 파운드리 공정 연구개발과 생산라인 건설에 더욱 가할 예정이다. 

2022년 하반기 완공예정인 평택 3라인 클린룸은 축구장 25개 크기 규모로, 현존하는 최첨단 기술이 적용돼 EUV 기술이 적용된 14나노 D램과 5나노 로직 제품등을 양산하게 된다. 

또한 삼성전자는 국내 반도체 생태계 발전을 위해 상생협력과 지원·투자도 더욱 확대할 방침이다. 

삼성전자 김기남 부회장은 “지금 대한민국의 반도체 산업은 거대한 분수령 위에 서 있고 대격변을 겪는 지금이야 말로 장기적인 비전과 투자의 밑그림을 그려야 할 때”라며 “우리가 직면한 도전이 크지만 현재를 넘어 미래를 향해 담대히 나아갈 것”이라고 밝혔다.